江西譽鴻錦材料科技有限公司從事第三代化合物半導(dǎo)體材料—氮化鎵（GaN）系列材料的開發(fā)制造和應(yīng)用。二十余年來專注于GaN材料外延、電子器件、光電器件和器件封裝等的研發(fā)和生產(chǎn)，擁有堅實的理論基礎(chǔ)和豐富的實戰(zhàn)經(jīng)驗，掌握氮化鎵外延、器件制備和封裝等領(lǐng)域的核心技術(shù)，本公司的GaN材料外延和器件的性能達到世界先進水平。

 

公司的主要產(chǎn)品有高性能肖特基二極管勢壘（SBD）、高電子遷移率晶體管（HEMT）、射頻/功率放大器（RF PA）、深紫外發(fā)光二極管（UVC-LED）等，這些產(chǎn)品廣泛用于新能源汽車、數(shù)據(jù)中心、超算中心、5G通訊及殺菌消毒等領(lǐng)域。江西譽鴻錦材料科技有限公司將致力于實現(xiàn)氮化鎵電子器件和高端光電器件領(lǐng)域的“中國智造”！

 

產(chǎn)品介紹

 

主營業(yè)務(wù)

電力電子（HEMT、SBD）、發(fā)光二級管（LED）、激光器（LD）、功率放大器（RF PA）、外延片、晶圓等產(chǎn)品

 

產(chǎn)品優(yōu)勢

電力電子：開關(guān)電源、逆變器、BMS、直流控制器和新能源汽車快充機等

激光器（LD）：平面投影（近投、全息）、測距儀、瞄準器等

發(fā)光二極管：空氣、水消菌殺毒，醫(yī)療器械、便攜式殺毒等

功率放大器：基站、射頻器件等。

 

譽鴻錦產(chǎn)業(yè)效率革命 = 高良率 x IDM整合 x 高研發(fā)效率 x 設(shè)備降本 x 快速應(yīng)用驗證

Super IDM產(chǎn)業(yè)集群 = 上游設(shè)備材料+IDM+終端技術(shù)應(yīng)用+零售生態(tài)平臺

 

團隊經(jīng)驗：公司擁有包括諾貝爾獎級，院士，千人等頂級的專家，聯(lián)合中科院納米所技術(shù)支持。在研發(fā)，生產(chǎn)工藝，產(chǎn)品應(yīng)用擁有核心優(yōu)勢。企業(yè)核心技術(shù)團隊已掌握了外延生長、芯片設(shè)計、制造、封測等全產(chǎn)業(yè)鏈核心技術(shù)，形成“設(shè)計+外延+芯片+制造”的IDM模式，已取得和申請專利技術(shù)140多項。

 

推薦產(chǎn)品

 

GaN MOS YHJ-65P150AMC廣泛應(yīng)用于PD快充、適配器等。

以手機快充為例，現(xiàn)在手機變得越來越強大，同時也要求給手機充電的適配器往更大功率、更高功率密度方向發(fā)展。而GaN的高頻、高效特性正好滿足此要求。

與傳統(tǒng)Si MOSFET相比，GaN具有以下優(yōu)點:
1、低Qg/Ciss:開斷速度快；開關(guān)速度快，減少開關(guān)損耗；
2、低Coss/ qss:開、關(guān)速度快，開關(guān)頻率高，減少開關(guān)損耗；
3 、Qrr=0:無反向恢復(fù)損失(無體二極管)，降低開關(guān)噪聲，更好的EMI性能；
4 、低 RDSON: 降低傳導(dǎo)損耗。GaN的這些優(yōu)點使得采用GaN的適配器尺寸更小、效率更高。