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國產(chǎn)攻克28nm全部濕法工藝設(shè)備認(rèn)證,明年進(jìn)軍14/7nm

2021-07-12 18:32:37閱讀量:407來源:芯片大師

導(dǎo)讀:日前,國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備公司至純科技在互動(dòng)平臺(tái)表示,目前至純科技28納米節(jié)點(diǎn)全部濕法工藝設(shè)備已認(rèn)證完畢。


  

圖:至純科技


除了28nm工藝節(jié)點(diǎn)之外,上海證券報(bào)告中指出,至純科技14nm及7nm工藝預(yù)計(jì)2022年可供客戶驗(yàn)證,客戶包括中芯國際、華虹集團(tuán)、長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)、華為、臺(tái)灣力晶等行業(yè)領(lǐng)先者。


2020年至純科技濕法工藝設(shè)備出貨量超過30臺(tái),新增訂單5.3億元,增長(zhǎng)211.8%


“濕法工藝設(shè)備”在晶圓制造產(chǎn)線主要用于有效清洗晶圓表面的顆粒、金屬離子以及一些氧化層等等,在最大程度上去除晶圓上的雜質(zhì)。一般的清洗原理主要分為干式以及濕式兩種,由于濕式的整體工作效率更好,因此國內(nèi)超過百分90%的產(chǎn)線均采用濕法設(shè)備


  

圖:盛美半導(dǎo)體的濕法清洗設(shè)備


至純科技表示,國內(nèi)目前有三家在濕法工藝設(shè)備端提供中高階濕法制程設(shè)備,分別是至純科技、北方華創(chuàng)和盛美半導(dǎo)體,國內(nèi)廠商的市場(chǎng)占比在逐年上升中。


同時(shí),國內(nèi)大型晶圓廠的新fab已經(jīng)陸續(xù)批量采購本土廠商的刻蝕、清洗等工藝設(shè)備


據(jù)招標(biāo)網(wǎng)統(tǒng)計(jì),2020年長(zhǎng)江存儲(chǔ)公開采招標(biāo)設(shè)備1512臺(tái),其中北方華創(chuàng)合計(jì)中標(biāo)50臺(tái),包括成膜設(shè)備4臺(tái),刻蝕設(shè)備12臺(tái),退火設(shè)備30臺(tái),氧化設(shè)備1臺(tái),爐管1臺(tái);盛美半導(dǎo)體共計(jì)中標(biāo)11臺(tái)清洗設(shè)備。


2020年華虹無錫12寸廠合計(jì)采購267臺(tái)半導(dǎo)體設(shè)備,其中北方華創(chuàng)中標(biāo)真空烘烤爐等12臺(tái)設(shè)備,盛美半導(dǎo)體中標(biāo)15臺(tái)清洗設(shè)備。


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