作為制造芯片的核心器件，光刻機自然是重中之重，而一款性能出眾的光刻機也是制造高性能芯片的必要條件，而在光刻機領域尤其是高端光刻機，目前基本上被ASML所壟斷，而ASML也提供給包括英特爾、臺積電以及三星等晶圓代工廠提供最新的EUV光刻機。目前隨著技術的進步，越來越多的晶圓代工廠商開始研發(fā)和量產5nm工藝，如今ASML宣布將會采用全新的技術，從而讓5nm晶圓的產品成倍提升。

  

今天ASML宣布正式發(fā)布第一代HMI多光束檢測機HMI eScan1000，這個檢測機可以適用于5nm及更先進工藝，使得產能大漲600%。根據ASML的介紹，HMI eScan1000實際上是一套能夠驗證先進工藝生產出來的晶圓質量的系統(tǒng)，它的作用就是檢測制造出來的晶圓能夠符合要求和預期。

全新的多光束檢測機HMI eScan1000能夠同時生產和控制九道電子束，檢測性能提升了600%，因此晶圓的制造能力也得到了極大的提升，此外HMI eScan1000不單單能夠檢測5nm工藝的產品，同時也能夠為今后的更先進的工藝做準備，而現在這款產品也得到了客戶的認可，目前已經在陸續(xù)測試。

簡單來說，ASML研發(fā)的這個HMI eScan1000機器就是一臺驗證先進工藝生產出來的晶圓質量的系統(tǒng)，工藝越先進，檢測系統(tǒng)就越重要，它的檢測精度、吞吐量決定了生產的效率。

ASML的HMI eScan1000的突破之處在于能夠同時產生、控制九道電子束，所以產能提升了600%，可以大大減少晶圓質量分析所用的時間。

目前HMI eScan1000可以用于5nm及以下先進工藝的晶圓測試，已經交付給客戶進行測試驗證，未來ASML還會推出光束更多的測試設備以滿足客戶對先進工藝的要求。

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